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Halbleiter-Technologie Shin-Etsu investiert über 100 Million Euro in Herstellung von Photomaskenrohlingen

| Redakteur: Alexander Stark

Shin-Etsu Chemical hat eine Investition in Höhe von mehr als 100 Millionen Euro in den Ausbau seiner Produktionskapazitäten für Photomaskenrohlinge bekannt gegeben. Die Erweiterungen betreffen die existierenden Produktionsanlagen in Echizen (Takefu-Werk) und in Joetsu (Noetsu-Werk).

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Photomaskenrohlinge dienen als Basis für die Photomasken von Halbleitern.
Photomaskenrohlinge dienen als Basis für die Photomasken von Halbleitern.
(Bild: Pixabay / CC0 )

Tokio/Japan – Auf dem Gelände des Takefu-Werks wird ein neues Produktionsgebäude errichtet und die Anlagen für moderne ArF-Produkte werden ausgebaut. Die Arbeiten sollen bis April 2020 abgeschlossen sein. Gleichzeitig wird das Naoetsu-Werk, in dem allgemein einsetzbare ArF-Produkte hergestellt werden, ebenfalls ausgebaut. Dort sollen die Erweiterungsmaßnahmen bereits Ende 2019 abgeschlossen sein. Durch die Investition wird die Kapazität des Unternehmens für die Herstellung von Photomaskenrohlingen um 30 % gesteigert.

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