Anlagenbau im Zeichen des digitalen Life-Cycle-Management

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So soll das Kompatibilitätsproblem zwischen CAE-Applikationen behoben werden

Eine Basis für die Einführung eines Asset Life-Cyle-Datenmodells stellen Dr. Hannes Richert und Jürgen Stienemeier von Evonik vor: DEXPI – Data EXchange in the Process Industry – ist eine Initiative von BASF, Bayer Technology Services und Evonik mit dem Ziel, das Kompatibilitätsproblem zwischen CAE-Applikationen zu beheben. DEXPI arbeitet dabei zusammen mit den führenden internationalen CAE-Firmen, der internationalen ISO-Community und Forschungseinrichtungen an Lösungen auf Basis der ISO 15926. Der erste große Meilenstein – der komplette, intelligente R&I-Austausch – ist nun erreicht.

Der erste Schwerpunkt des Vortrags der beiden Evonik-Experten ist die Vorstellung und Analyse der fünf wesentlichen kritischen Erfolgsfaktoren der gemeinsamen Initiative: Einbindung der CAE-Firmen, Integration in die Normenwelt, Internationalität, Enabler für Industrie 4.0 und Know-How bei den beteiligten Personen und Unternehmen. Der zweite Schwerpunkt ist die Darstellung des speziellen Nutzens für das Asset Life Cycle-Konzept in der Evonik. Es sollen dort nicht nur die von den CAE-Firmen erstellten Schnittstellenprogramme und Konfigurationen zum Einsatz kommen, sondern die DEXPI-Spezifikationen dienen gleichzeitig auch als Basis für die Einführung eines neuen umfassenden Asset Lifecyle-Datenmodells.

Die virtuelle Prozessanlage – im echten Leben gibt es keinen Reset-Knopf ...

... diesen plakativen Titel hat der Vortrag von Dr. Mathias Oppelt, Leiter des Simulation Centers für die Prozessautomatisierung bei Siemens in Erlangen, der aufzeigt, wie Sie mit Simulation das Engineering und den Betrieb von Prozessanlagen verbessern können. Oppelt greift die Herausforderungen an das Engineering und den Betrieb von Anlagen, besonders unter Betrachtung des Megatrends der Digitaisierung, auf. Er arbeitet heraus, welchen Nutzen Simulation im Lebenszyklus einer Prozessanlage bieten kann. Der heutige Stand zur Nutzung von Simulation wird der Zielsetzung für die zukünftige Nutzung gegenübergestellt. Oppelt prüft dabei die Zukunftsvision auf die heutige Machbarkeit, bevor er mit bereits realisierten Vorteilen durch die Nutzung von Simulation schließt.

Die weiteren Beiträge des ersten Tages sowie das komplette Programm des Digital Plant Kongresses finden Sie hier.

Highlight: die Podiumsdiskussion

Abschließendes Highlight des ersten Kongress-Tages ist sicher wieder die Diskussionsrunde, die sich – moderiert von Prof. Dr. Leon Urbas, TU Dresden – der provokanten Frage stellen wird: „Prozessindustrie 4.0 – und was machen wir nun mit den vielen Daten?“ Stellung hierzu nehmen Feeko Harders (Zeppelin), Heiner Temmen (Evonik), Jan Rougoor (Siemens) und Michael Höchel (BASF).

Der 2. Tag des Digital Plant Kongresses 2016 wartet mit einer Fülle von Best Practice-Beispielen auf.

Überzeugt? Dann melden Sie sich am besten gleich an.

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