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20.12.2023
Qualitätskontrolle von Wafer-Vorbehandlungsprozessen in der Halbleiterindustrie mit Online-NIR
Halbleiter sind die grundlegenden Komponenten moderner elektronischer Geräte. In einer Anlage zur Halbleiterfertigung ist die Reinheit der Waferoberflächen entscheidend für die Produktqualität, vor allem wenn man die Größenordnung (Nanometer) der Sensorherstellung betrachtet.
Kleinste Verunreinigungen können, weshalb Hersteller äußerst strenge und präzise Verfahren zur Qualitätssicherung der Produktionsprozesse mit hoher Reproduzierbarkeit implementieren. Zu den wichtigsten Produktionsschritten gehört die Oberflächenbehandlung der Wafer mit Ätz- und Reinigungsbädern, die der Entfernung von Verunreinigungen und der Oberflächentexturierung dienen. Dieser Artikel zeigt, welche Vorteile sich für Halbleiterhersteller ergeben, die die Nahinfrarotspektroskopie (NIRS) in die Prozesse der Wafervorbehandlung für Echtzeitanalysen, 100 % Rückverfolgbarkeit, optimale Produktsicherheit und maximalen Durchsatz implementieren.