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11. PROCESS Pumpen-Forum – Experten-Tipps fürs Dosieren

Dos & Don’ts beim Dosieren und Fördern mit oszillierenden Verdrängerpumpen

| Redakteur: Dr. Jörg Kempf

Matthias Sauter, Lewa, gibt in seinem Vortrag auf dem 11. PROCESS Pumpen-Forum einen Ausblick über aktuelle Entwicklungen in der Dosiertechnik. Im Fokus stehen dabei oszillierende verdrängerpumpen.
Matthias Sauter, Lewa, gibt in seinem Vortrag auf dem 11. PROCESS Pumpen-Forum einen Ausblick über aktuelle Entwicklungen in der Dosiertechnik. Im Fokus stehen dabei oszillierende verdrängerpumpen. (Bild: Lewa)

Sie stehen vor anspruchsvollen Dosieraufgaben und haben es mit schwierigen Fluiden zu tun? Dann sollten Sie sich den Vortrag von Matthias Sauter, Leiter Forschung & Entwicklung bei Lewa, auf dem 11. PROCESS Pumpenforum am 12./13. November in Würzburg nicht entgehen lassen.

Oszillierende Verdrängerpumpen sind besonders gut für Dosieraufgaben geeignet, da sie sich durch eine äußerst drucksteife Kennlinie auszeichnen. Dies bedeutet, dass der Förderstrom kaum vom Förderdruck abhängig ist und eine lineare Abhängigkeit zwischen Fördermenge und Hublänge bzw. Hubfrequenz besteht. Mit oszillierenden Verdrängerpumpen können außerdem sehr hohe Förderdrücke aufgebaut werden.

Werden schwierige Fluide gefördert, beispielsweise toxische, explosive, abrasive, korrosive oder wertvolle Fluide, sind Leckagen meist inakzeptabel, und es wird die oszillierende Verdrängerpumpe vom Typ Kolbenmembranpumpe eingesetzt.

Ein zentraler Bestandteil des Vortrags von Matthias Sauter auf dem 11. PROCESS Pumpen-Forum mit begleitender Ausstellung am 12./13. November auf der Festung Marienberg in Würzburg sind die Begriffe Dosieren und Fördern, die näher erläutert werden. Dabei wird im besonderen auf die Dosiergenauigkeit, Dosierfehler und den möglichen Stellbereich für eine Dosierapplikation eingegangen.

Die Vorteile der oszillierenden Verdrängerpumpe für höchste Dosiergenauigkeit über einen weiten Stellbereich werden aufgezeigt. Anhand von Beispielen werden Dosieranwendungen mit oszillierenden Verdrängerpumpen gezeigt. Der Vortrag soll des Weiteren einen Ausblick über aktuelle Entwicklungen geben, wie mit intelligenter Antriebstechnik eine weitere Verbesserung der Dosiereigenschaften von oszillierenden Verdrängerpumpen möglich wird.

Was das 11. PROCESS Pumpen-Forum sonst noch bietet? Viel! Überzeugen Sie sich selbst: Hier geht’s zum vollständigen Programm sowie zum Online-Anmeldeformular.

PROCESS Pumpen-Forum als Teil der Förderprozess-Foren 2013

Parallel zum Pumpen-Forum finden im Rahmen der Förderprozess-Foren 2013 das 7. Schüttgut-Forum sowie erstmals das 1. PROCESS MSR-Forum sowie das 1. Ex-Schutz-Forum statt. Denn überall, wo gefördert wird, muss auch gemessen, gesteuert sowie geregelt werden, und das Thema Explosionsschutz spielt für viele Anwender ebenfalls eine entscheidende Rolle. Die Teilnahme am Pumpen-Forum berechtigt auch zur Teilnahme an den anderen drei Foren sowie der gemeinsamen begleitenden Ausstellung.

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